|
СтатусДиссертация была зашищена 20 ноября 2015Утверждена Национальным Советом 22 декабря 2015 Автореферат![]() ![]() ДиссертацияCZU 621.315.592.539.213
|
Диссертация написана на русском языке и содержит введение, 4 главы, выводы и рекомендации, 154 библиографических ссылок, 113 страниц базового текста, 95 рисунков и 6 таблиц. Полученные результаты опубликованы в 24 научных работах (6 из которых- статьи).
Цель работы: исследование фундаментальных свойств халькогенидных стекол и аморфных слоев (As4S3Se3)1-xSnx, определение оптических параметров и их изменения под действием внешних факторов, исследование процесса регистрации оптической информации.
В результате выполненных исследований была решена главная научная задача, которая состоит в управлении физическими и оптическими свойствами халькогенидных стекол и аморфных слоев (As4S3Se3)1-xSnx путем изменения состава и под действием внешних факторов.
Научная новизна и оригинальность полученных результатов В диссертации впервые проводится исследование физических, механических, оптических, фотоэлектрических и голографических свойств халькогенидных стекол и аморфных слоев (As4S3Se3)1-xSnx. Было обнаружено, что легирование халькогенидных стекол (As4S3Se3)1-xSnx примесью олова, особенно при легировании оловом x=0,04, существенно снижает интенсивность некоторых полос поглощения S-H и H2O в ИК спектрах. Рост концентрации Sn вплоть до x=0,10, смещает колебательные моды в спектрах комбинационного рассеяния расположенных на частотах ν=236 см-1 (пирамиды AsSe3/2) и ν=345 см-1 (пирамиды AsS3/2) в область низких частот.
Установлено, что по мере увеличения концентрации Sn в халькогенидных стеклах (As4S3Se3)1-xSnx происходит смещение фундаментального края поглощения в красную область спектра. Из спектров оптического поглощения были рассчитаны значения оптической ширины запрещенной зоны Eg opt, установлена ее зависимость от состава аморфных слоев. Из спектров оптического пропускания были рассчитаны значения коэффициента поглощения α, показателя преломления n, дисперсионной энергии E0, силы диэлектрического осциллятора Ed, а также степень модуляции оптических параметров под действием света с энергией hν≥Eg opt. Был исследован „in-situ” процесс релаксации оптического пропускания T(t)/T(0)=f(t) для аморфных пленок (As4S3Se3)1-xSnx при освещении He-Ne лазером, который хорошо описывается функцией затянутой экспоненты T(t)/T(0)=A0+Aexp[-(t-t0)/τ](1-β). В тонких слоях (As4S3Se3)1-xSnx были записаны дифракционные решетки голографическим методом и электронным лучом. В процессе электронно-лучевой записи дифракционных решеток была обнаружена модуляция рельефа на поверхности пленок при высоких токах пучка электронов.
Полученные результаты в диссертации представляют интерес для
материаловедения аморфных полупроводников. Аморфные слои исследуемых
халькогенидных стекол (As4S3Se3)1-xSnx могут быть использованы для голографии в
качестве регистрирующих сред для записи оптической информации и для дифракционной
оптики в качестве дифракционных структур созданных с помощью электронно-лучевой
записи.